Новое оборудование система - Heidelberg DWL 66+

ООО «НПП «Техно-ПАРК» выиграло грант в конкурсе «Коммерциализация-VII» с проектом «Новый способ конструирования фильтров на поверхностных акустических волнах с применением технологии прямого экспонирования лазерным лучом». В рамках данного проекта решается проблема технологического отставания, и появляется возможность изготавливать структуры с минимальным размером элемента 0,3 мкм. Совместно с Фондом содействия развитию малых форм предприятий в научно-технической сфере (Фонд содействия инновациям) ООО «НПП «Техно-ПАРК» приобрело и готовится к запуску системы безмасковой лазерной литографии DWL 66+, производитель - Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия). Поставщиком данной системы выступают наши коллеги из ООО «Минатех».

Система Heidelberg DWL 66+  включает в себя:

Параметры работы системы Heidelberg DWL 66+:

Режим работы	HiRes	I	II	III	IV	V
Размер адресной сетки, нм	5	10	25	50	100	200
Минимальный размер элемента, мкм	0,3	0,6	0,8	1,0	2,0	4,0
Минимальная ширина линии и промежутка (half pitch), мкм	0,5	0,8	1,0	1,5	3,0	5,0
Скорость экспонирования для диодного лазера 405 нм (рисования), мм²/мин	3	13	40	150	600	2000
Скорость экспонирования для UV диодного лазера (рисования), мм²/мин	2	10	30	110	-	-
Неровность (шероховатость) края (3σ), нм	50	50	70	80	110	160
Равномерность (3σ), нм	60	60	80	130	180	250
Точность совмещения (3σ), нм	100	100	150	250	400	800
Точность совмещения 2-ого слоя на 100x100 мм² (3σ), нм	500	500	500	500	800	1000
Область письма (экспонирования), мм²			200 х 200

Примеры работы системы Heidelberg DWL 66+: Проводимый комплекс работ по запуску и освоению новой системы позволяет создать фильтры на ПАВ, отличающихся улучшениями по следующим основным характеристикам: номинальная частота, вносимые потери, подавление сигнала в полосе задержания, масса-габаритные показатели и стоимость. Являясь аппаратурно-образующими элементами частотной селекции радиоэлектронной аппаратуры передачи и обработки информации, фильтры на ПАВ обеспечат улучшение в реальном масштабе времени таких аппаратурных функций, как чувствительность, динамический диапазон, помехозащищенность, масса-габаритные показатели, энергопотребление, плотность упаковки информационных каналов, стабильность рабочих частот. Внедрение инновационных технологий предлагаемых в рамках настоящего проекта позволит увеличить в несколько раз объём производства с одновременным снижением себестоимости единицы продукции и соответственно уменьшить разрыв цен по сравнению с зарубежными аналогами. На сегодняшний день потребность импортозамещения фильтров на ПАВ настолько велика, что традиционный путь разработки и освоения в производстве (затратный и трудоемкий) займет десятки лет. Инновационная технология многократно облегчит вывод на рынок новых типономиналов фильтров на ПАВ по программе импортозамещения. С ростом производства и снижения себестоимости, несомненно, откроется перспектива экспортного потенциала Объединение прогрессивных методов разработки с инновационной технологией формирования высокопрецизионных структур методом литографии без использования фотошаблона посредством ультрафиолетового лазерного излучения выводит на новый научно-технический уровень производство фильтров на ПАВ.