Научно-производственное предприятие ООО «НПП «Техно-ПАРК»

Новое оборудование система - Heidelberg DWL 66+

ООО «НПП «Техно-ПАРК» выиграло гранд в конкурсе «Коммерциализация-VII» с проектом «Новый способ конструирования фильтров на поверхностных акустических волнах с применением технологии прямого экспонирования лазерным лучом». В рамках данного проекта решается проблема технологического отставания и появляется возможность изготавливать структуры с минимальным размером элемента 0,3 мкм. Совместно с Фондом содействия развитию малых форм предприятий в научно-технической сфере (Фонд содействия инновациям) ООО «НПП «Техно-ПАРК» приобрело и готовится к запуску систему безмасковой лазерной литографии DWL 66+ производитель - Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия). Поставщиком данной системы выступают наши коллеги из ООО «Минетех».

Система Heidelberg DWL 66+  включает в себя:

Новое оборудование система - Heidelberg DWL 66+
  • Климатическая камера.
  • Антивибрационное основание.
  • Продвинутая оптическая система включающая высокоотражающие зеркала и акустооптические модуляторы с коррекцией в реальном времени
  • Система камер (макро и микро) для инспекции подложки, автоматического выравнивания (совмещения) и функций измерения.
  • Манометрическая система автофокусировки в реальном времени с диапазоном (размером) 80 мкм.
  • (требует 5 мм дистанции от края подложки)
  • Столик с линейными моторами на воздушных подшипниках, линейные модуляторы для контроля позиции столика, вакуумный прижим для образцов разных размеров.
Параметры работы системы Heidelberg DWL 66+:
Режим работы HiRes I II III IV V
Размер адресной сетки, нм 5 10 25 50 100 200
Минимальный размер элемента, мкм 0,3 0,6 0,8 1,0 2,0 4,0
Минимальная ширина линии и промежутка [half pitch, μm] 0,5 0,8 1,0 1,5 3,0 5,0
Скорость экспонирования для диодного лазера 405 нм (рисования), мм2/мин 3 13 40 150 600 2000
Скорость экспонирования для UV диодного лазера (рисования), мм2/мин 2 10 30 110 - -
Неровность (шероховатость) края (3σ), нм 50 50 70 80 110 160
Равномерность (3σ), нм 60 60 80 130 180 250
Точность совмещения (3σ), нм 100 100 150 250 400 800
Точность совмещения 2-ого слоя на 100x100мм² [3σ, nm] 500 500 500 500 800 1000
Область письма (экспонирования), мм2 200 х 200
Примеры работы системы Heidelberg DWL 66+:
Новое оборудование система - Heidelberg DWL 66+
Новое оборудование система - Heidelberg DWL 66+
Проводимый комплекс работ по запуску и освоению новой системы позволяет создать фильтры на ПАВ, отличающихся улучшениями по следующим основным характеристикам: номинальная частота, вносимые потери, подавление сигнала в полосе задержания, масса-габаритные показатели и стоимость. Являясь аппаратурно-образующими элементами частотной селекции радиоэлектронной аппаратуры передачи и обработки информации, фильтры на ПАВ обеспечат улучшение в реальном масштабе времени таких аппаратурных функций, как чувствительность, динамический диапазон, помехозащищенность, масса-габаритные показатели, энергопотребление, плотность упаковки информационных каналов, стабильность рабочих частот. Внедрение инновационных технологий предлагаемых в рамках настоящего проекта позволит увеличить в несколько раз объём производства с одновременным снижением себестоимости единицы продукции и соответственно уменьшить разрыв цен по сравнению с зарубежными аналогами. На сегодняшний день потребность импортозамещения фильтров на ПАВ настолько велика, что традиционный путь разработки и освоения в производстве (затратный и трудоемкий) займет десятки лет. Инновационная технология многократно облегчит вывод на рынок новых типономиналов фильтров на ПАВ по программе импортозамещения. С ростом производства и снижения себестоимости, несомненно, откроется перспектива экспортного потенциала Объединение прогрессивных методов разработки с инновационной технологией формирования высокопрецизионных структур методом литографии без использования фотошаблона посредством ультрафиолетового лазерного излучения выводит на новый научно-технический уровень производство фильтров на ПАВ.
2019 © ООО «НПП «Техно-ПАРК»
Добавлено в корзину
phoneenvelopephone-handsetmap-marker